top of page

📢 STT 訂閱專區已上線

免費文章會照常更新,一篇都不會少。訂閱是「加強版」——每週深度週評、財報法說的完整判讀、所有長篇深度報告全包。

免費讓你跟上,訂閱讓你看懂、能做判斷。

月訂 NT$199|年訂 NT$2,000(約 NT$167/月)
👉 立即訂閱: vocus.cc/salon/simpletechtrend

2026 OCP Global Summit | Quintessent | Alan Liu | Laser Sources to Simplify Slow-and-Wide

6天前
讀畢需時 6 分鐘

1. 為何「慢而寬」把壓力推到雷射

慢而寬(slow-and-wide)的邏輯是用更多、更慢的通道換掉少數高速通道,降低每位元功耗與 SerDes 負擔。Liu 開場只說了兩件事:每一條光鏈路都靠雷射供電,而今天全球雷射產能吃緊,主力材料又幾乎都是 InP。

第二層壓力來自架構。OCI 這類 scale-up 架構走多波長 DWDM,一條光纖上要好幾個波長。我們在 技術文章分析|Meta、Broadcom、AMD 聯手定義 OCI 200G 線側規範 拆過這組規格:波長數一多,「用一顆 DFB 對應一個波長」的做法,雷射顆數、波長控制迴路、封裝耦合點都跟著倍增。

Quintessent 的答案有三根柱子:

  • 材料:GaAs 基板上的砷化銦(InAs)量子點,取代 InP 量子井

  • 異質整合:把量子點增益層鍵合到矽光子晶圓,雷射腔由矽定義

  • 架構:同一套製程,換矽層光罩就能做單波長 DFB 或多波長梳狀雷射

2. 拆解材料端:沿用 VCSEL 的 GaAs 生態系

Liu 刻意把量子點放進一個大家熟悉的脈絡:這套 GaAs 材料生態系,就是 Face ID VCSEL 用了快十年的那一套。Quintessent 是無晶圓廠(fabless)公司,磊晶與製程都委外,口頭點名的磊晶夥伴是 IQE。

投影片上的數字:

  • 可在最大 6 吋 GaAs 基板上磊晶,一個成長批次可放 6 片 6 吋晶圓(口頭說明)

  • 至今成長超過 750 片晶圓

  • EVT 階段、100% 代工流程:Epi1 946 顆、Epi2 1,019 顆、Epi3 988 顆,合計約 3,000 顆

  • 未最佳化的 WPE 在每個批次都集中在 25–30%

可靠度是 初步數據:一批法布里-珀羅量子點雷射從 2023 年開始老化,條件是 80°C、125 mA(輸出 30 mW 的實際工作電流),已超過 22,000 小時、約 2.5 年,維持 30 mW 所需的偏壓電流變化大致在 ±5% 以內。新一輪超過 150 顆、加速因子更高的測試已啟動,之後要擴到上千顆,才能建出完整的平均失效時間模型。

22,000 小時證明的是材料不容易衰退,還不是產品的失效率。

3. 拆解製程:拿掉的四道工序,正是 InP 的四個挑戰

▲ Quintessent 五步異質整合流程:圖形化 SOI、成長量子點磊晶、面朝下鍵合、移除 GaAs 基板、晶圓級測試(圖片來源:Quintessent|2026 OCP Global Summit 簡報(第 5 頁))

流程是先由矽光代工廠在 SOI 上刻好波導、光柵與耦合器,同時在 6 吋 GaAs 上長量子點磊晶;兩片晶圓面對面鍵合(不需對準),再移除 GaAs 基板,留下一層薄量子點膜做 III-V 製程。

投影片底部三行是整場最有產業意義的地方:

  • 沒有端面:每顆雷射都能在晶圓上做光、電測試,出貨即為已知良品(known-good die)

  • 沒有電子束、沒有二次磊晶:腔體由 65 nm 或更好的矽光微影定義

  • 沒有 InP:增益材料全部是 GaAs 體系

傳統 InP DFB 的光柵要靠電子束或全像曝光、要二次磊晶埋入、要劈裂端面才能測。Quintessent 把這幾道窄口換成矽光代工廠與 GaAs 磊晶廠的既有產能,這比任何單一光學指標都更接近它說的「雷射短缺」解方。

4. 拆解梳狀雷射:波長不用控,功率還不夠

▲ 3 × 0.25 mm 單一矽晶片、單一電流源產生 8 條等間距譜線,各通道隨溫度同步漂移(圖片來源:Quintessent|2026 OCP Global Summit 簡報(第 8 頁))

梳狀雷射的賣點很直接:一個腔體、一個偏壓、八條等間距譜線,不需要逐一調諧或回授控制。投影片上的數據:

  • 晶片尺寸 3 × 0.25 mm,偏壓 50 mA 時 8 條譜線功率差在 2.0 dB 以內

  • 20°C 到 110°C 都維持均勻的梳狀頻譜

  • 峰值 WPE 超過 20%,梳狀雷射本身在矽波導內總功率超過 80 mW,改變偏壓不跳模

  • 加上 SOA 後總功率 200 mW、每波長超過 25 mW(30°C)

光源

總功率

每波長

來源

梳狀雷射(前次 OFC 首次展示)

約 40 mW

約 5 mW

口頭:「大概一半」,STT 換算

梳狀雷射(本次)

> 80 mW

約 10 mW

第 10 頁

梳狀雷射 + SOA

200 mW

> 25 mW

第 11 頁

8 × DFB + SOA 陣列(200 GHz)

—

最高 85 mW(單側)

第 12 頁

▲ 梳狀雷射總功率約七個月翻倍,但加上 SOA 後每波長仍約 25 mW,且是晶片上而非光纖端的功率(圖片來源:Simple Tech Trend 自製,資料來源 Quintessent 2026 OCP Global Summit 簡報)

翻倍的速度值得肯定:從前次 OFC 到 OCP 約七個月,梳狀雷射本身從約 40 mW(口頭估計)到 80 mW。但比較要用同一把尺:我們在 CPO 雷射不一定要拚 400 mW:NPO 內建雷射 討論過 400 mW 等級單波長 CW 雷射;那顆雷射要再分光給多條 lane,STT 換算:分 8 路每路約 50 mW、分 16 路約 25 mW(未計分光損耗)。梳狀雷射每個波長本身就是一條 lane,所以 25 mW/λ 名目上只追平 16 路分光的水準,而且還是晶片上的數字。真正要比的是進光纖、過 ELSFP 之後每條 lane 剩多少毫瓦。

5. 隔離器與 DFB 陣列:比梳狀雷射更早能落地的那一半

同一平台的單波長 DFB 數據其實更成熟:

  • 8 顆 DFB + SOA 陣列、間距 200 GHz,SMSR 大於 55 dB、不跳模,單側最高 85 mW,且尚未針對功率與效率最佳化

  • 5 顆不同波長的 DFB(SOA 偏在透明點、不提供增益),回授光到 −15 dB 時,RIN 仍維持在約 −150 dBc/Hz

最後一點的意義是 量子點 DFB 耦合到 PIC 時很可能不需要光隔離器。隔離器是又貴又占空間的被動件,拿掉它同時降低物料成本、簡化組裝。Liu 把這歸因於量子點材料本身對背向反射的高容忍度;不過「免隔離器」投影片用的字眼是「很可能」,要等搭配實際 PIC 的鏈路數據才能定案。

6. 風險與反面論點

  • 絕對波長還沒交代。梳狀譜線「一起漂移」只保證相對間距;Q&A 中 Liu 說溫度係數約 0.08 nm/°C,與第 8 頁圖表一致(35°C 到 60°C 譜線約移 2 nm)。STT 換算:OCI 預覽頻譜落在約 1,296–1,303 nm,400 GHz 在 1,296 nm 約 2.24 nm(1,311 nm 約 2.29 nm),升溫 25°C 移動約 2.0 nm(約 0.9 格),約 28°C 就平移一整格;20–110°C 全範圍約 7.2 nm、超過三格。微環調變器要追得上,或光源要加溫控,系統簡化的幅度得重新評估。

  • 間距要重新設計。本次 8 波長梳狀雷射的譜線間距,依第 8 頁圖表讀值約 1 nm(在 1,295 nm 附近約 180–185 GHz,STT 換算);OCI MSA 版本要 4 波長 × 400 GHz、每組一顆梳狀雷射,第 14 頁只放了一張預覽頻譜,尚無功率與均勻度數據。

▲ 0.08 nm/°C 下溫度上升 25°C,4 × 400 GHz 梳狀譜線整組位移約 2.0 nm,約 0.9 格通道間距(圖片來源:Simple Tech Trend 自製,資料來源 Quintessent 2026 OCP Global Summit 簡報)

  • 可靠度樣本仍小。22,000 小時是一批法布里-珀羅雷射的初步資料,不是梳狀雷射或 DFB + SOA 的數據;150 顆以上的加速測試結果尚未公開。

  • SOA 帶來新的變數。200 mW 靠 SOA 撐起,投影片自己註明帶外 SMSR 還要靠降低耦合損耗與最佳化 SOA 改善。

7. 對台灣供應鏈的意義

  • 這條路線把雷射從 InP 拉回 GaAs。投影片與口頭都沒有點名任何台灣廠商,唯一點名的磊晶夥伴是 IQE。意義在產能類型而非個別公司:6 吋 GaAs 磊晶與 VCSEL 等級 III-V 製程本是台灣化合物半導體代工的既有能力;若這條路走通,雷射增益材料需求有機會從 InP 外溢到 GaAs 產線,但目前沒有公開資訊指向特定台灣廠商參與。

  • 矽光代工與晶圓級鍵合是另一個入口。Quintessent 的雷射腔由矽光微影定義,代表雷射價值的一部分移到矽光代工與鍵合段,這和 ECOC2026|快而窄 vs 慢而寬:scale-up 光互連的勝負,卡在晶片邊緣那道 SerDes 裡描述的 OCI 生態系是同一條線。

  • 對 InP 雷射廠是中長期的替代風險,不是近期威脅。以 25 mW/λ 的現況,2027 年內較可能先在對功率要求較低的 DFB 陣列或可插拔 DWDM 收發器試水溫。

8. 總結

Quintessent 這場最有說服力的不是那張八條譜線的頻譜,而是 3,000 顆雷射、25–30% WPE、22,000 小時 這組製造數字:它證明 GaAs 量子點加矽光鍵合可以走代工流程、可以晶圓級測試,正面處理「雷射產能吃緊」與 InP 製程瓶頸。

但慢而寬要的是每波長功率與絕對波長精度。梳狀雷射目前每波長 25 mW,且是晶片上的功率,名目上只追平 400 mW 等級 CW 雷射分 16 路的水準;0.08 nm/°C 的漂移讓整組譜線每升溫約 28°C 平移一格 400 GHz。接下來 6–12 個月該觀察三件事:OFC 2027 前後 OCI MSA 相容 4 × 400 GHz 光源的實測功率、ELSFP 版本的光纖端每波長功率、150 顆以上可靠度測試的第一批結果。

波長可以一次給八個,毫瓦只能一點一點加;Quintessent 的勝負在後者。

本文僅供技術與產業趨勢分析,不構成任何投資建議。

留言

評等為 0(最高為 5 顆星)。
暫無評等

新增評等
bottom of page